SETO 1.67 لنزهای فتوکرومیک SHMC

1) پوشش چرخش چیست؟

پوشش چرخش روشی است که برای رسوب فیلم های نازک یکنواخت بر روی بسترهای مسطح استفاده می شود. معمولاً مقدار کمی از مواد پوشش در مرکز بستر اعمال می شود ، که یا با سرعت کم می چرخد ​​یا اصلاً می چرخد. پس از آن بستر با سرعت تا 10،000 دور در دقیقه چرخانده می شود تا مواد پوشش را توسط نیروی گریز از مرکز پخش کند. دستگاهی که برای پوشش چرخش استفاده می شود ، یک اسپین اسپین یا به سادگی اسپینر نامیده می شود.
چرخش ادامه می یابد در حالی که مایعات از لبه های بستر می چرخند ، تا زمانی که ضخامت مورد نظر فیلم حاصل شود. حلال کاربردی معمولاً بی ثبات است و همزمان تبخیر می شود. هرچه سرعت زاویه ای چرخش بیشتر باشد ، فیلم نازک تر می شود. ضخامت فیلم همچنین به ویسکوزیته و غلظت محلول و حلال بستگی دارد. تجزیه و تحلیل نظری پیشگام از پوشش اسپین توسط Emslie و همکاران انجام شد ، و توسط بسیاری از نویسندگان بعدی گسترش یافته است (از جمله ویلسون و همکاران ، که میزان گسترش در پوشش اسپین را مطالعه کرده اند ؛ و Danglad-Flores و همکاران ، که پیدا کردند که یک مورد پیدا کردند. توضیحات جهانی برای پیش بینی ضخامت فیلم سپرده شده).
پوشش چرخش به طور گسترده ای در ساخت میکروفون لایه های اکسید عملکردی روی بسترهای شیشه ای یا تک کریستالی با استفاده از پیش سازهای Sol-Gel مورد استفاده قرار می گیرد ، جایی که می توان از آن برای ایجاد فیلم های نازک یکنواخت با ضخامت نانو استفاده کرد. [6] از آن به شدت در فوتولیتوگرافی استفاده می شود ، تا لایه های عکسبرداری را در حدود 1 میکرومتر ضخامت دهد. Photoresist به طور معمول در 20 تا 80 چرخش در ثانیه به مدت 30 تا 60 ثانیه چرخانده است. همچنین به طور گسترده ای برای ساخت ساختارهای فوتونی مسطح ساخته شده از پلیمرها استفاده می شود.
یکی از مزیت های چرخش فیلم های نازک ، یکنواختی ضخامت فیلم است. با توجه به سطح خود ، ضخامت بیش از 1 ٪ متفاوت نیست. با این حال ، پوشش های اسپین فیلم های ضخیم تر از پلیمرها و نورپردازی ها می توانند منجر به مهره های لبه نسبتاً بزرگی شوند که برنامه ریزی آن دارای محدودیت فیزیکی است.