لنز فتوکرومیک SETO 1.67 SHMC

1) پوشش اسپین چیست؟

پوشش اسپین روشی است که برای رسوب لایه های نازک یکنواخت بر روی بسترهای مسطح استفاده می شود.معمولاً مقدار کمی از مواد پوشش دهنده روی مرکز زیرلایه اعمال می شود که یا با سرعت کم می چرخد ​​یا اصلاً نمی چرخد.سپس زیرلایه با سرعت 10000 دور در دقیقه چرخانده می شود تا مواد پوششی با نیروی گریز از مرکز پخش شود.ماشینی که برای پوشش اسپین استفاده می شود، اسپین کوتر یا به سادگی اسپینر نامیده می شود.
چرخش در حالی که سیال از لبه‌های زیرلایه می‌چرخد ادامه می‌یابد تا ضخامت مورد نظر لایه به دست آید.حلال اعمال شده معمولا فرار است و به طور همزمان تبخیر می شود.هرچه سرعت زاویه‌ای چرخش بیشتر باشد، لایه نازک‌تر است.ضخامت فیلم نیز به ویسکوزیته و غلظت محلول و حلال بستگی دارد.تحلیل نظری پیشگامانه پوشش اسپین توسط Emslie و همکاران انجام شد، و توسط بسیاری از نویسندگان بعدی (از جمله ویلسون و همکاران، که میزان پخش در پوشش اسپین را مطالعه کردند؛ و Danglad-Flores و همکاران، که یک توصیف جهانی برای پیش‌بینی ضخامت فیلم رسوب‌شده).
پوشش اسپین به طور گسترده ای در ریزساخت لایه های اکسید عملکردی روی شیشه یا بسترهای تک کریستالی با استفاده از پیش سازهای سل-ژل استفاده می شود، جایی که می توان از آن برای ایجاد لایه های نازک یکنواخت با ضخامت های نانو استفاده کرد.[6]این به شدت در فتولیتوگرافی برای رسوب لایه‌های مقاوم به نور با ضخامت حدود 1 میکرومتر استفاده می‌شود.Photoresist معمولاً با سرعت 20 تا 80 دور در ثانیه به مدت 30 تا 60 ثانیه می چرخد.همچنین به طور گسترده برای ساخت ساختارهای فوتونیک مسطح ساخته شده از پلیمرها استفاده می شود.
یکی از مزایای لایه های نازک پوشش چرخشی یکنواختی ضخامت لایه است.به دلیل خود تراز شدن، ضخامت ها بیش از 1٪ تغییر نمی کند.با این حال، پوشش چرخشی لایه‌های ضخیم‌تر پلیمرها و مقاوم‌کننده‌های نوری می‌تواند منجر به دانه‌های لبه نسبتاً بزرگی شود که مسطح شدن آن‌ها دارای محدودیت‌های فیزیکی است.